Nijs

Hjirûnder sille wy de ferskate skaaimerken fan TFT LCD-skerm yn detail yntrodusearje:

(1) Grutte skaal: de earste generaasje fan grutskalige glêzen substraat (3000mmx400mm) TFT yn 'e iere jierren 1990, it glêzen substraatgebiet útwreide nei 6800mmx880mm yn' e earste helte fan 2000, en it 950mmx1200mm glêzen substraat is ek yn wurking set koartlyn.

(2) Hege yntegraasje: De resolúsje fan 'e LCD-projeksje 1.3-inch TFT-displaychip is XGA, dy't miljoenen piksels befettet. De resolúsje is. De filmdikte fan it 16.1-inch TFT amorf silisium fan SXGA (1280x1024) is mar 50 nanometer. De technyske yntegraasje fan TABONGLAS en SYSTEMONGLASS, de technyske easken foar apparatuer en oanbod, en de technyske swierrichheden binne heger as dy fan tradisjonele LSI.

(3) Folsleine funksjes: TFT floeibere kristal werjefte waard oarspronklik brûkt as in matrix adres seleksje circuit, dy't ferbettere de skaaimerken fan floeibere kristal ljocht fentyl. Foar byldskermen mei hege resolúsje kin it LCD-skerm in hege kwaliteit, hege resolúsje werjaan troch it oanpassen fan de spanning yn it 0-6 display V-berik (syn typyske wearde is 0.2 ~ 4V) en it doelelemint korrekt te kontrolearjen.

(4) Lege kosten: Glêzen substraten en plestik substraten oplosse grûnslach it kostenprobleem fan grutskalige semiconductor yntegreare circuits en iepenje in brede applikaasjeromte foar de tapassing fan grutskalige semiconductor yntegreare circuits.

(5) Process fleksibiliteit: Neist sputtering, laser annealing technology, CVD (gemyske damp deposition) MCVD kin kieze amorphous film, multi-produkt film en single-produkt film neist tradisjonele film formaasje lykas molekulêre gemyske damp deposition. Net allinnich kin dwaan silisium film, mar ek dwaan oare dingen. I-VI en tetra-V semiconductor films.

Yn algemiene tapassingsfjilden is it LCD-skerm mei floeibere kristallen basearre op TFT-technology de pylderindustry fan 'e ynformaasjemaatskippij, en kin ek brûkt wurde foar de rappe ûntwikkeling fan tinne filmtransistors. (TFT-OLED) flat paniel display.